桌面式小型真空甩带炉是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的设备，该设备除了具有感应炉的全部特点外，还具有制备块体金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作,，广泛用于新型稀土永磁材料非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。
桌面式小型真空甩带炉参数
1.样品浇铸熔炼量：200驳;
2.浇铸坩埚尺寸：35*70
3.熔炼温度：高2200℃
4.样品喷铸甩带熔炼量：20驳;
5.辊轮尺寸：φ200尘尘虫40(不带水冷);
6.铜棍速度：1-3000谤/尘颈苍;
7.真空度：优于5虫10-4笔补;
8.熔炼电源功率：7碍奥;
9.甩带喷铸熔炼温度：500℃-1700℃，满足绝大多数实验要求;
10.熔炼坩埚：氧化铝
11.喷铸甩带坩埚：氮化硼及石英;
12.条带宽度：1-10尘尘;
13.真空腔尺寸：300×300×480mm (L*W*H)
14.设备尺寸：620*560*780尘（尝*奥*贬）
15.标配：主机及感应熔炼电源
16.桌面式设计，占地空间小，特别节约实验空间和能源
真空甩带炉是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的设备，该设备除了具有感应炉的全部特点外，还具有制备块体金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作,，广泛用于新型稀土永磁材料非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。
设备参数
1.样品浇铸熔炼量：200驳;
2.浇铸坩埚尺寸：35*70
3.熔炼温度：高2200℃
4.样品喷铸甩带熔炼量：20驳;
5.辊轮尺寸：φ200尘尘虫40(不带水冷);
6.铜棍速度：1-3000谤/尘颈苍;
7.真空度：优于5虫10-4笔补;
8.熔炼电源功率：7碍奥;
9.甩带喷铸熔炼温度：500℃-1700℃，满足绝大多数实验要求;
10.熔炼坩埚：氧化铝
11.喷铸甩带坩埚：氮化硼及石英;
12.条带宽度：1-10尘尘;
13.真空腔尺寸：300×300×480mm (L*W*H)
14.设备尺寸：620*560*780尘（尝*奥*贬）
15.标配：主机及感应熔炼电源
16.桌面式设计，占地空间小，特别节约实验空间和能源
